对比起主流的极紫外光光刻机技术，其拥有无需复杂光学系统，生产成本低，适合重复性结构等优势，而且拥有更高的制程上限，理论上可实现1n以下的解析度，远超传统光刻的物理极限。

这条晶片生产的技术路线之所以没有发展起来，是因为印压模板的生产难度大，而且缺损率高，且寿命有限，印压数千次就要进行更换，提高了晶片的量产成本。

所以这条路线才被人放弃了。

虽然纳米压印光刻技术有着极大的缺陷，但对于有用外挂的李兴汉来说，这些缺陷都是可以克服的。

李兴汉只知道自己找到了一条绕过国外光刻机领域的专利，发展晶片生产行业的道路，这给国内的半导体行业一条新的出路。

euv光刻机研发出来之后，对岸想方设法地阻挠我国对先进位程的探索，我们终究能够突破重重阻碍，用几年的时间就把世界领先水平的晶片掏出来。

但要是李兴汉能把纳米压印光刻技术也发展到先进位程水平，甚至超越欧美的先进位成，不也能少受点窝囊气不是？

想到这，李兴汉都已经隐隐有些期待了起来。

不知道等到国外的公司发起半导体行业制裁的时候，发现星汉科技拿出了制成水平不输于他们的纳米压印光刻技术，会是什么表情。

有李兴汉在这里推动国内的科技进步，说不定国内的科技大爆发会提前到来呢？

而且掌握了晶片生产能力，对于星汉科技未来往其他方向发展也有着极大的裨益。

无论是进入智慧型手机行业，还是未来发展量子计算或者人工智慧，都需要适配的算力晶片作为支撑。

在资金充裕的情况下，确实可以提前往这方面进行布局了。